BENEQ、龍翩 辦ALD光學鍍膜研討

BENEQ亞太區業務處長Mikko（右三）、BENEQ臺灣區業務處長謝祖德（右一）與龍翩真空董事長楊吉祥（右四）及總經理陳景龍（右五）等多位貴賓於活動中合影。圖／李淑慧

芬蘭BENEQ與臺灣真空鍍膜設備大廠-龍翩真空科技於4月20日聯手舉辦「ALD光學鍍膜研討會」，會中邀集臺灣各大光學廠商齊聚一堂分享國際間前瞻性產品應用與高端製程技術的開發進展，期藉此業界交流拓展ALD技術與量產設備在臺灣光學市場，開拓更多的合作發展機會。

BENEQ自1984年起開始使用原子層沉積ALD進行世界上首次工業生產。今日BENEQ已經成爲全球領先的ALD設備生產商，提供種類廣泛的技術產品和研發服務，並致力於將原子層沉積技術投入到各項研究中，亦通過工業ALD解決方案推動技術發展的大趨勢。

原子層沉積（Atomic Layer Deposition，ALD）系藉由前驅物氣體與基板表面形成自我侷限反應，進行單層及多層原子薄膜沉積，並具備大面積、高階梯覆蓋率、高厚度均勻性、低溫製程及原子級膜厚控制等優點。

BENEQ ADL半導體業務處長謝祖德表示，原子層沉積（ALD）技術如今備受重視，主要受惠於積體電路工業的奈米制程發展對ALD的需求增加，其中已有多項關鍵薄膜製程從傳統CVD或PVD方式改由ALD取代，而目前除了半導體以外，許多產業及領域皆有元件微型化的趨勢，近年看到原子層沉積開發更接近產業需求等級的12吋量產型ALD設備外，在光電領域和生醫材料等領域，例如：照相機模組、車載、自駕、激光雷達、VR及醫材等，從發展趨勢來看未來幾年將有極佳的應用機會。

龍翩真空科技董事長楊吉祥表示，龍翩自1991年成立以來即積極於真空鍍膜機之開發與製造，致力爲客戶建構完整的「Turn-key」服務，從產品設計、開發、設備製造、生產規劃、操作人員訓練及製程設計諮詢等完整Total-Solution服務，於光學產業界深耕多年：每每因應產業發展趨勢之需，與業界共同先衝鋒陷陣並建立濃厚革命情感，提供該產業更新的技術與相關製程供業界使用，充分發揮產業鏈重要的環節。

目前龍翩真空營運主軸：真空蒸鍍／濺鍍設備製造、薄膜製程技術服務、藍芽溫度監控裝置、真空配件、成膜輔耗材銷售、Olympus光學檢測儀器等總代理；就在西洋情人節2月14日，龍翩與芬蘭BENEQ結爲關係夥伴，從今往後，龍翩將在耕耘多年平臺上提供ALD設備服務及銷售。

BENEQ和龍翩真空今後將合作開發和積極推廣ALD原子層沉積鍍膜技術，應用於臺灣光學市場的高端曲率鏡片；ALD技術爲最具挑戰性的結構提供均勻的批覆薄形鍍膜層，極適合高端光學應用，龍翩真空身爲業界先驅應爲產業未來發展及應用全力以赴。