大陸晶片製造新突破 研發奈米級光雕刻3D結構

大陸科學家首次獲得奈米級光雕刻3D結構。（央視新聞）

大陸央視新聞用戶端15日報導，國際頂級學術期刊《自然》14日晚間發表了中國科學家在下一代光電晶片製造領域的重大突破。南京大學張勇、肖敏、祝世寧領銜的科研團隊，發明了一種新型「非互易飛秒雷射極化鐵電疇」技術，將飛秒脈衝雷射聚焦於材料「鈮酸鋰」的晶體內部，通過控制雷射移動的方向，在晶體內部形成有效電場，實現三度空間（3D）結構的直寫和擦除。

報導稱，這一新技術，突破了傳統飛秒雷射的光衍射極限，把光雕刻鈮酸鋰3D結構的尺寸，從傳統的1微米量級（相當於頭髮絲的1／50），首次縮小到奈米級，達到30奈米，大大提高了加工精度。

這一重大發明，未來或可開闢光電晶片製造新賽道，有望用於光電調製器、聲學濾波器、非易失鐵電記憶體等關鍵光電器件晶片製備，在5G／6G通訊、光計算、人工智慧等領域有廣泛的應用前景。