光刻機(膠)概念5日主力淨流出3.27億元,晶方科技、芯源微居前
7月5日,光刻機(膠)概念上漲0.21%,今日主力資金流出3.27億元,概念股43只上漲,32只下跌。
主力資金淨流出居前的分別爲晶方科技(5585.69萬元)、芯源微(3121.63萬元)、南大光電(2418.64萬元)、張江高科(2156.7萬元)、彤程新材(2154.68萬元)。
本文源自:金融界
作者:主力情報
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