撼動ASML地位？佳能最新神器出貨 晶片製造更省電省錢

微影是晶片製造製程中的重要步驟。（圖：shutterstock／達志）

荷商艾司摩爾（ASML）是半導體設備巨頭，臺積電等龍頭公司製造先進晶片，都需採用ASML製造商生產的昂貴極紫外光曝光機（EUV），臺積電之後或許有別家廠商能選擇，日本企業佳能（Canon）發佈新聞稿指出，已將第一臺奈米壓印曝光機運送到美國德州電子研究所，目前先供其研發實驗室使用，將讓晶片製造更省電省錢。

佳能指出，公司去年10月發表採用奈米壓印微影 （NIL）技術的設備，名稱爲「FPA-1200NZ2C」，該設備可用來生產5奈米晶片，經改良後能生產2奈米。

佳能表示，已將其中一個奈米壓印曝光機運送給德州電子研究所，該機構是成立於2021年的半導體聯盟，並得到德州學奧斯汀分校，以及衆多晶片公司、其他公共部門和學術機構的支持。

佳能表示，「FPA-1200NZ2C」將用作先進半導體研發和原型生產的一部分，相比使用更傳統光學方法的競爭對手，其奈米壓印製程更便宜、功耗也更少，而且不需要光源。

ASML昂貴的設備價格，對客戶來說是龐大負擔，最先進的High NA EUV要價約3.8億美元（約新臺幣121.2億元），相比前一代EUV約1.8億美元（約新臺幣57.4億元）貴上一倍。