佳能希望用更便宜的5納米納米壓印光刻機挑戰ASML

日本科技巨頭佳能（Canon）希望最早在今年推出新的低成本納米壓印光刻機（NIL），從而撼動半導體制造業。這項技術能將芯片設計印製在硅片上，而不是像市場領先者ASML的系統那樣使用更復雜的光蝕刻技術，它能讓佳能壓低競爭對手的價格，使尖端芯片生產平民化。

"我們希望在今年或明年......趁着市場熱度開始出貨。"佳能負責納米壓印光刻技術開發的工業部門負責人竹西宏明（Hiroaki Takeishi）說："這是一項非常獨特的技術，它將使尖端芯片的生產變得簡單而低成本。納米壓印光刻機的半導體節點寬度爲 5 納米，目標是最終達到 2 納米。"

Takeishi 說，這項技術主要解決了以前的缺陷率問題，但成功與否將取決於能否說服客戶將其集成到現有的製造工廠是值得的。

有人懷疑佳能是否有能力擾亂由 ASML 昂貴但複雜的極紫外（EUV）光刻工具引領的市場。然而，如果納米壓印能以更低的成本將產量提高到近 90%，它就能開闢出一片天地，尤其是在極紫外光供應難以滿足激增的需求的情況下。

據稱，佳能的納米壓印設備成本僅爲 ASML 設備的 40%，而運行功耗卻降低了 90%。佳能最初專注於用此技術生產 3D NAND 存儲器芯片，而不是複雜的處理器，因此同樣需要應對限制對華銷售的出口管制。

Takeishi 表示，佳能將 "謹慎關注"制裁風險，但由於可選方案不多。佳能的納米壓印技術經過 15 年多的研發，如果能成功實現商業化應用，將能改變競爭格局，使新的競爭者能夠以更低的成本生產領先的半導體產品。但是，新機器的缺陷率、集成挑戰和地緣政治阻力能否讓佳能在與芯片製造巨頭的競爭中脫穎而出，還有待觀察。