日益和半導體取得廢銅蝕刻液回收處理裝置專利，提高處理效率

金融界2024年11月7日消息，國家知識產權局信息顯示，日益和半導體材料有限公司取得一項名爲“一種廢銅蝕刻液的回收處理裝置”的專利，授權公告號 CN 221956168 U，申請日期爲2024年3月。

專利摘要顯示，本實用新型公開了一種廢銅蝕刻液的回收處理裝置，包括處理罐，所述處理罐頂端開設有進料口，且處理罐頂端安裝有電機，所述電機底端固定連接有轉杆，且轉杆表面對稱固定連接有連接塊，所述連接塊一側固定連接有L杆，且L杆一側固定連接有第一攪拌杆，並且L杆頂端固定連接有第二攪拌杆，所述處理罐一側安裝有排氣管，且排氣管一側安裝有第一閥門。將廢銅蝕刻液通過進料口倒入到處理罐中，在運作電機，帶動轉杆進行轉動，在帶動連接塊進行轉動，從而帶動L杆進行轉動，在帶動第一攪拌杆、第二攪拌杆進行轉動，當廢銅蝕刻液進行置換時可以進行充分的攪拌，快速的轉動使得反應可以更加的充分，使得置換反應更加的快速，從而提高處理的效率。

本文源自：金融界

作者：情報員