艾司摩爾 南科設EUV技術培訓中心

晶圓代工龍頭臺積電下半年全力衝刺5奈米量產，明年還展開3奈米生產線建置，臺積電已成爲全球擁有最大極紫外光（EUV）產能的半導體大廠，臺灣因此成爲全球EUV曝光機最大市場。微影設備大廠荷商艾司摩爾（ASML）在南科設立荷蘭以外的首座EUV全球技術培訓中心20日開幕啓用，就近支援臺積電及亞太地區客戶。

臺積電中科Fab 15廠及竹科Fab 12廠都有建置EUV曝光機設備，主要提供7+奈米及6奈米晶圓代工，南科Fab 18廠是針對5奈米及3奈米打造的超大型晶圓廠（GigaFab），亦是臺積電EUV微影全製程廠區。臺積電下半年5奈米進入量產，明年開始建置3奈米生產線，對於EUV曝光機需求大增。據瞭解，臺積電Fab 18廠現階段已安裝18臺EUV曝光機，成爲全球擁有最大EUV產能的半導體廠。

臺積電看好5奈米及3奈米等先進製程未來幾年強勁需求，今年資本支出已提高至160～170億美元，代表對持續增加EUV曝光機採購量。EUV設備大廠艾司摩爾爲了服務大客戶臺積電，並就近支援亞太區其它客戶，選擇在南科設立荷蘭以外的首座EUV全球技術培訓中心。

艾司摩爾全球副總裁暨臺灣區總經理陳文光20日在培訓中心開幕典禮指出，2010年艾司摩爾提供第一臺EUV微影設備原型機給臺積電進行研發工作，爲全球微影技術開創新紀元。2017年艾司摩爾交付第一臺量產型EUV微影系統給臺積電，寫下商用EUV製程技術的新里程。臺灣EUV曝光機裝機規模已領先全球，艾司摩爾在南科成立EUV全球技術培訓中心，爲臺灣半導體產業提供更完整的服務。

艾司摩爾重申看好EUV曝光機臺出貨，今年EUV設備產能可支援35臺出貨量，明年可望再增加至45～50臺。由於晶圓代工廠及IDM廠在7奈米及更先進製程需要大量採用EUV技術完成晶圓光罩曝光製程，DRAM廠也開始導入EUV技術，隨着臺積電、三星、英特爾、SK海力士等國際大廠開始量產，法人看好EUV機臺次系統模組代工廠帆宣、極紫外光光罩盒（EUV Pod）供應大廠家登等直接受惠，訂單能見度看到年底。

同時，臺積電亦藉由乾式EUV光罩潔淨技術的創新，自2018年導入試產迄今，有效減省水、化學品等能資源使用量，大幅縮短光罩保修頻率與時間，除使光罩使用率躍升超過80％，亦延長先進製程EUV光罩壽命，累計創造的改善效益達新臺幣20億元。臺積電已於今年於Fab 12B廠、Fab 15B廠、Fab 18廠自動化系統導入量產，優化乾式EUV光罩技術可分析與清潔小於50奈米落塵。