英特爾準備接收第二套艾司摩爾 High NA EUV設備

艾司摩爾（ASML）的最新的高階晶片生產工具：高數值孔徑極紫外光（High-NA EUV）微影設備。 路透

英特爾（Intel）正準備接收第二套來自艾司摩爾（ASML）的最新高階晶片生產機器：高數值孔徑極紫外光（High-NA EUV）微影設備。這套先進設備價格高達3.5億歐元（3.83億美元）。

路透5日報導，英特爾執行長基辛格其實是在上週四財報視訊說明會時，就提到上述進度。但上週四美股盤後英特爾發佈財報時，強調必須節約開支，隨着公告要大裁員、暫停發放股利，公司股價在當時就隨即崩了20%，第二天正常交易收盤更重挫26%。投資人忙着狂拋英特爾股票之時，沒人注意到基辛格這段談話。

英特爾去年12月開始收到第一臺艾司摩爾出貨的High-NA EUV微影設備，因爲機器龐大需要花多個月才能組裝完成，一切就緒後，便能夠製造新一代、更強大的電腦晶片。

根據財報說明會文字紀錄，基辛格在財報說明會上說，「第二套High-NA工具將進到我們奧勒岡州廠區」，公司的科技投資，「正在展現良好的早期跡象」。

艾司摩爾高階主管上月17日曾表示，公司開始出貨第二套High-NA設備給客戶，未說客戶是誰。High-NA順利導入市場對艾司摩爾的未來發展也非常關鍵，但購買的客戶究竟何時纔會真的啓用，仍有不確定性。

目前艾司摩爾拿到的十多張High-NA設備的訂單，客戶包括臺積電、英特爾、三星電子、SK海力士、美光等市場領導大廠。英特爾計劃2027年之前利用High-NA微影技術量產。臺積電今年將接收一套，但沒有表明何時用於生產。

艾司摩爾公司（ASML）執行長富凱上月提到DRAM記憶晶片製造廠，可能在2025年或2026年使用High-NA設備。DRAM記憶晶片製造廠指的是三星、SK海力士、美光。