荷蘭擴大光刻機出口限制 陸商務部籲勿濫用管制措施

大陸商務部8日針對荷蘭宣佈將擴大光刻機的管制範圍迴應指，堅決反對，並呼籲荷方勿濫用出口管制措施。（路透）

荷蘭政府於當地時間6日宣佈最新出口管制規定，擴大對先進半導體制造設備的出口管制措施，從7日起，更多類型的半導體制造設備將受到當局授權要求的限制。大陸商務部8日迴應，中方對此堅決反對，荷方應從維護國際經貿規則及中荷經貿合作大局出發，避免相關措施阻礙兩國半導體產業正常合作與發展，不濫用出口管制措施，實際維護中荷企業及雙方共同利益。

據大陸商務部8日上午消息，商務部發出「新聞發言人就荷蘭半導體出口管制問題回答記者問」指出，中方注意到相關情況。近來，中荷雙方就半導體出口管制問題進行了多層級、多頻次的溝通磋商。荷方在2023年半導體出口管制措施的基礎上，進一步擴大對光刻機的管制範圍，中方對此表示不滿。

上述發言人續指，近年來，美國爲維護自身全球霸權，不斷泛化國家安全概念，脅迫個別國家加嚴半導體及設備出口管制措施，嚴重威脅全球半導體產業鏈供應鏈穩定，嚴重損害相關國家和企業正當權益，中方對此堅決反對。

上述發言人強調，荷方應從維護國際經貿規則及中荷經貿合作大局出發，尊重市場原則與契約精神，避免相關措施阻礙兩國半導體產業正常合作與發展，不濫用出口管制措施，實際維護中荷企業及雙方共同利益，維護全球半導體產業鏈供應鏈穩定。

此前，彭博資訊報導，荷蘭在當地時間9月6日公佈新的出口管制規則。此新規適用於ASML較舊型號深紫外侵潤式光刻系統（deep ultraviolet immersion lithography systems）的對大陸出口，於7日生效。

荷蘭政府近期已限制ASML對大陸出口先進設備，最新規定將影響另外兩種工具，包括TWINSCAN NXT：1970i和1980i深紫外光微影（DUV）系統，用於生產電腦晶片。

ASML發言人莫爾斯對此表示，「由於這是技術性調整，這項宣佈不至於對本公司2024年財務展望，或我們在2022年11月投資人日允諾的長期目標，造成任何影響。」