目標對準5nm以下，中企釋放關鍵信號，歐美不願看到的情況出現了

在9月中旬，工信部放出了一條大新聞，那就是我們國家成功造出了分辨率小於等於65納米的氟化氬光刻機，一下子就把國內外的目光都給吸引過來了。更厲害的是，它的套刻精度能達到8納米以下。

雖然這機器的最高精度是65納米，但要知道，四年前我們國產光刻機還在90納米的水平晃悠。所以說，這次的進步就是一座重要的里程碑，也說明我們推進光刻機的計劃是真的見效了。往後十年裡，國產光刻機怕是要迎來一場大爆炸式的發展，這事兒把歐美日韓都給嚇得不輕。

歷史上ASML就是個例子，2002年一推出65納米分辨率的光刻機，從此就在光刻機界開了掛似的。還有，我們現在搞的還是乾式光刻機，這意味着以後還能往浸潤式光刻機發展。要是真把浸潤式的給攻克下來，那下一臺國產光刻機的精度說不定就能衝到36.5納米，ASML當年就是這麼走過來的。

當然，這條路肯定不好走，但我們有的是時間。就在國產光刻機往前衝的時候，中國光谷那邊也發了個官方消息，說武漢太紫微光電科技有限公司搞出的T150A光刻膠產品，已經過了半導體工藝的量產驗證。

簡單來說，光刻機刻芯片不是直接上手就乾的，要有個幫手，那就是光刻膠。如果把芯片光刻比作老式的膠片相機拍照，光刻膠就是那個膠片，要靠它讓電路圖在芯片上顯出來，後面纔好刻。

以前，我們一直依賴日本進口光刻膠，結果美國一限制我們，日本也跟着添堵，芯片製造就更難了。所以，我們就拼命攻關國產光刻膠技術。

功夫不負有心人，我們現在T150A光刻膠的分辨率能達到120納米，還能用在5納米及以下的芯片生產上。就是說，在光刻膠領域，我們已經走到世界前列了，歐美日韓再想在光刻膠上卡我們脖子，門兒都沒有。

我們的國產光刻膠目標可是定在5納米這個檔次上，不光能自己用，還能賣到國際市場上，和那些歐美日的光刻膠大佬比劃比劃。很顯然，這不是歐美想看的情況。

迴歸以往，中國企業一旦突破某項技術，進入國際市場，別的企業就要靠邊站。盾構機是這樣，通信設備也是這樣，接下來光刻膠也會是這樣。

我們從光刻機到光刻膠都取得了突破，拜登團隊可就成笑話了。他們封鎖咱們的計劃，不光沒擋住我們的發展，還把自己企業的路給擠窄了，真是偷雞不成蝕把米。

其實他們心裡也清楚擋不住我們，但還是一條路走到黑，無非就是想多撐一會兒他們的科技霸權。但這只是自欺欺人，根本沒用。

外國媒體也對我們國產光刻膠的突破感到驚訝，說中國這速度也太快了，畢竟四年前我們的光刻膠還落後得很。對此，你們怎麼看？