山東東嶽未來氫能申請帶有聯吡啶側基的長壽命質子交換膜專利，引入功能性聯吡啶結構減弱聚合物降解

金融界2025年1月21日消息，國家知識產權局信息顯示，山東東嶽未來氫能材料股份有限公司申請一項名爲“帶有聯吡啶側基的長壽命質子交換膜及製備方法”的專利，公開號CN 119264301 A，申請日期爲2021年11月。

專利摘要顯示，本發明提供帶有聯吡啶側基的長壽命質子交換膜及製備方法，質子膜組分包括帶有聯吡啶側基的全氟離子聚合物，聚合物的結構單元包括A單元和B單元：A單元爲聯吡啶結構單元該單元包括吡啶基團M以及全氟醚結構單元，B單元包括離子基團‑SO3H以及全氟醚結構單元。本發明所述聚合物及其應用產品包括以下優點：(1)保留全氟聚合物超穩定的優勢單元‑(CF2CF2)x‑，保障聚合物足夠的機械強度和熱穩定性。(2) 引入的功能性聯吡啶結構可以有效的捕捉或猝滅自由基，從而減弱或減緩了聚合物的降解。(3)能通過調控A單元的佔比即接枝率來合成滿足各種需求的離子交換容量IEC、化學穩定性的全氟離子聚合物。

天眼查資料顯示，山東東嶽未來氫能材料股份有限公司，成立於2017年，位於淄博市，是一家以從事化學原料和化學制品製造業爲主的企業。企業註冊資本44285.6671萬人民幣，實繳資本43966.3823萬人民幣。通過天眼查大數據分析，山東東嶽未來氫能材料股份有限公司共對外投資了2家企業，參與招投標項目53次，知識產權方面有商標信息2條，專利信息232條，此外企業還擁有行政許可75個。

本文源自：金融界

作者：情報員