舜宇奧來申請光柵製備方法等專利，顯著提升光波導亮度均勻性

金融界2025年1月24日消息，國家知識產權局信息顯示，舜宇奧來微納光學（上海）有限公司申請一項名爲“光柵製備方法、光柵結構以及光波導”的專利，公開號CN 119335636 A，申請日期爲2024年11月。

專利摘要顯示，本披露公開了一種光柵製備方法、光柵結構以及光波導，所述光柵製備方法包括：在襯底表面鍍光學膜層，並對所述光學膜層進行刻蝕，以使所述光學膜層形成光柵齒；向所述光柵齒的間隙填充材料，以形成填充層，其中所述填充材料和所述光柵齒爲不同的材料；以及以預設刻蝕選擇比同步向下刻蝕光柵區域中的所述光柵齒和所述填充層，以形成底對齊高度漸變的光柵。根據這樣的步驟操作所製備出來的光柵底對齊且高度漸變，這可以顯著提升包含該光柵的光波導的亮度均勻性，且填充層還對光柵起到支撐作用，這還可以提升光柵的穩定性。

天眼查資料顯示，舜宇奧來微納光學（上海）有限公司，成立於2022年，位於上海市，是一家以從事批發業爲主的企業。企業註冊資本25000萬人民幣，實繳資本25000萬人民幣。通過天眼查大數據分析，舜宇奧來微納光學（上海）有限公司參與招投標項目8次，專利信息8條，此外企業還擁有行政許可9個。

本文源自：金融界

作者：情報員