遠不及一線大廠標準？ 韓媒爆料三星5奈米良率出大包
晶圓代工領域先進製程之爭，目前僅剩下臺積電、三星電子以及英特爾有能力競爭，然而，近期外媒卻爆料，三星的5奈米制程良率竟遠遠低於合格的95%，而且是位於華城的V1廠，於2020年2月啓動生產、爲全球首座在7奈米以下製程採用極紫外光(EUV)曝光機的半導體工廠，爲全球首座將極紫外光(EUV)微影設備的生產線。
據《BusinessKorea》報導，晶圓代工廠製程良率爲取得訂單的關鍵，一般來說良率達到95%纔算合格，但傳出三星V1廠良率竟達不到50%。市調機構TrendForce指出，今年第一季以臺積電56%市佔率高居第一，三星雖排名第二，但僅有18%的市佔率，多年以來，三星都無法超越20%門檻。
據韓國民族日報先前報導，有「韓國半導體先生」稱號的專家陳大濟（Dae-Je Chin）認爲，，臺積電與三星在本質上就有差異，臺積電專攻代工項目，三星則擁有自產半導體產品的能力，這會與客戶產生競爭關係，除非三星願意將相關業務拆成獨立公司，或許有機會達到臺積電的一半規模，但不太可能直接超越臺積電。
不過，三星於2019年4月24日公佈「半導體願景2030」，打算在2030年成爲全球系統半導體龍頭，預計砸1160 億美元發展該公司的晶圓代工業務，打算利用EUV技術超越臺積電，近期也宣佈順利在3奈米制程採用環繞閘極技術（Gate-All-AroundGAA）流片，預計在2022年量產。
不過，臺積電也預計在今年下半年推出5奈米制程強效版，臺積電2021技術論壇上，臺積電總裁魏哲家宣佈，4奈米制程預計至2021年第三季開始試產，較先前規畫早一季時間，3奈米制程預計於2022年下半年量產。